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LightTools功能劃分

LightTools功能劃分

光學系統

允許創建多少個光學元件?

無限制

允許設置多少個波長?

無限制

線性尺寸選項

英寸, 納米, 毫米, 厘米, 米

宏語言

有 (創建模型, 處理模型, 分析)

允許創建多少個光源 
(只針對照明)

無限制

允許創建多少個接收器 
(只針對照明)

無限制

允許設置多少個成像光路

無限制

允許設置多少個視場

(只針對成像光路)

無限制

孔徑大小選項
(只針對成像光路)

入瞳直徑
數值孔徑在于物

視場規格選項
(只針對成像光路)

視場角 (無窮共軛) 
物高(有限共軛)

參考光線 (只針對成像光路)

主光線加上無限制的參考光線定義(數量和位置)

孔徑光闌 (只針對成像光路)

可在任意光學表面定義

自動和用戶自定義數據設置

瞳孔規范 (EPD 或 NAO) 
漸暈(移動所有參考光線)


光學元件

面型

平面,球面,二次曲面
圓柱面 (X 或 Y)
圓環面 (X 或 Y, 20th非球面輪廓)
多項式非球面 (20th )
掃掠樣條 (通過宏輸入)
樣條補丁 (通過宏輸入)
變形非球面 (20th )
奇次多項式非球面 (30th)
Zernike (65 項)
XY 多項式 (10th 階)
超二次曲線 (20th)

半徑模式

半徑或曲率

半徑類型 (只針對成像光路)

邊緣或主光線斜率
邊緣或主光線入射角度
邊緣或主光線高度
等光程 (邊緣或主光線)

厚度類型 (只針對成像光路)

邊緣或主光線高度
近軸像位

每一個元件數

4 (2 半徑和2厚度 ,只針對成像路徑)

折射模式的表面特性
 (可以應用到任何表面)

折射 
反射
只TIR 
TIR (折射或反射,取決于入射角)
分光(折射或反射, 除 TIR之外)
吸收(光線停止)
機械吸收 (光線停止)
衍射

表面散射

朗伯散射,高斯散射,余弦散射,用戶自定義散射,混合分布,橢圓高斯散射(BSDF)

體散射

Mie,用戶自定義或 Henyey Greenstein

重要性采樣

Yes,定位區或定位球

表面屬性

透過率
反射率
用戶自定義鍍膜
偏振屬性 (理想的線性偏振或延遲片)
菲涅爾損耗 (計算透射率/反射率)
每個表面最大非序列光線命中次數

衍射表面類型

線性光柵
徑向多項式 (DOE)
XY 多項式 (DOE)

衍射方向

透射、反射或兩者都有(允許多階)

玻璃類型

玻璃庫
假想 (Nd 和 Vd 指定)
用戶自定義材料 (光學或非光學)

玻璃輸入方法

對話框信息或通過玻璃圖

玻璃庫提供

Schott, Ohara, Hoya, Chance, Corning France, Kodak, Baush & Lomb, Corning, CDGM(成都光明)或特殊玻璃

允許的孔徑形狀

圓形,矩形,拱形,橢圓形,或 Bitmap

每一個表面允許的孔徑數

無限制

孔徑位置

位于表面上任何位置


光學元件操作

拉伸鏡頭焦點

Yes (正面或背面焦點)

透鏡彎曲

Yes

兩元件的膠合/拆分膠合 

Yes (膠合時會改變第二次選中元件的半徑)

浸沒

Yes

縮放比

Yes

移動

Yes 

復制

Yes 

旋轉

Yes 

陣列

Yes 

折疊

Yes 

元件組合/拆分

Yes

貼齊用戶自定義坐標系

Yes (貼齊任意軸)

刪除/恢復

Yes (無限制)

非光學元件

允許創建的非光學元件個數

無限制

3D 實體

立方體,圓柱,球體,橢球體,拉身體,旋轉體,圓環體, 

2D 種類

折線,矩形,文本


布爾運算

操作類型

并集 (合并兩個實體)
差集 (從一個實體中減去另外一個實體)
交集 (求兩個實體的共有部分)
剪切 (在一個實體上剪除一部分)

撤銷選項

Yes,恢復到操作指令之前

允許操作的布爾運算次數

無限制

編輯

Yes

使用目標范圍

所有3D實體,光學或非光學實體(光源除外)


非序列光線追跡

光線追跡模式

單根光線
光線扇 (發散光線, 匯聚光線, 平行光線扇)
光線網(發散光線, 匯聚光線, 平行光線網)

調用程序

Point-and-shoot (選擇類型,出發點和方向)

自動更新

Yes, 根據光學系統自動更新

物理描述

在3D空間準確的行為復制包括:分光,TIR,多級衍射,散射等等行為

可視化

顏色,線寬,線型,顯示/隱藏所有選擇物體


視圖

3D 視圖

線框,透明,實體

2D 視圖

平面,3D模型的輪廓面

桌面視圖

用戶自定義桌面,如:光源,成像光路或非序列光線

專用視圖

在選擇的表面上編輯非序列網格
鍍膜性能編輯

允許打開視圖數

無限制

更新

自動更新所有打開的視圖

VRML 輸出

Yes


創建工具

最大32 (用戶自定義層名稱)

網格

點或方格
On/Off可選擇
Show/No 可選擇
變量 X,Y 間隔
定期顏色區分

網格撲捉貼齊 (元件定位)

貼齊網格
貼齊X,Y或Z軸
貼齊物體
貼齊線
貼齊正交方向(90°貼齊)
啟動/關閉貼齊

坐標系

全局坐標系
用戶自定義坐標系 (用戶自己定義位置和方向)

定位

卡迪爾坐標系 (絕對,相對)
球面坐標系
極坐標系
絕對位置
相對位置


視圖布局

窗口

鏡頭(通過鼠標,命令行,滾動條或窗口中央)
縮放 (通過鼠標,固定操作或選擇的窗口)
fit

窗口布局 (3D 瀏覽視圖)

一個或4個
每個窗口大小都可調整

默認視角

正視圖,側視圖,俯視圖或等距視圖(3D瀏覽視圖中)
側視圖 (2D視圖,或成像光路視圖)

視角修改
(3D 瀏覽視圖)

可以繞任意軸旋轉 (通過鼠標或命令)
貼齊任意目標的前面或側面
貼齊任意用戶坐標系的坐標軸

可見性

在層對話框設置On/Off ,或在實體類型上設置 

渲染分辨率

在編輯下拉菜單中設置

顏色

表面類型(折射,反射,吸收或機械表面)的飽和度,色度,半透明度控制 

任意被選目標線性顏色和線寬控制


文本注解

文本特性

編輯菜單
正常字體, 斜體字
旋轉, 位置
一定縮放比 X,Y
成比例或固定比例,及兩端對齊

輔助

線, 箭頭, 框

提供字體

15

允許最大字體數

無限制


照明特色 (只針對照明模塊)

光源特性

點光源
體光源或面光源
Radiant Imaging 光源數據
球形,圓柱形,立方體, 圓環體
顏色分析
發光控制 (方向, on/off)

點光源角度分布

朗伯分布, 均勻分布, 用戶自定義分布

表面發光角度分布

朗伯分布, 均勻分布, 用戶自定義分布

表面發光空間分布

均勻分布, 用戶自定義分布

體發光角度分布

均勻分布, 用戶自定義分布

體發光體分布

均勻分布, 圓柱,用戶自定義分布

光源數量

無限制

接收器

可添加表面接收器和遠場接收器
用戶自定義 "bins"
隨著每一次追跡“bins”內數據會自動更新

接收器數量

無限制

光線追跡

全部非序列光追跡
蒙特卡羅算法(隨機起始點和方向)

光線數

無限制
在設計視圖窗口可選擇是否預覽

輸出

2D 線條圖 - 矩形和極坐標圖 
光柵偽彩圖,RGB彩色圖或灰度圖
坎德拉圖
照度輪廓圖
3D 表面圖 - 矩形和極坐標圖
每一次追跡數據的圖像進行平滑處理
蒙特卡羅光線打在接收器表面上的離散圖
包圍能量圖
表格形式顯示包圍能量圖
可調整照度分布binning大小
可顯示或隱藏蒙特卡羅光線
標簽顯示輻射度學或光度學單位
照度數據文件導入導出

分析

表面上輻射度/照度分析
光源發光強度分析
球面內光源發光強度分析
用戶自定義正方形,矩形,圓形,橢圓形和狹縫

環形通量分析
徑向和平面對稱性數據處理 
統計光線數據 (平均值, std-dev., max)
匯總每根光線端點數據
光線追跡更新時,接收器也會自動更新并移除舊的照度分布數據


標準接口

輸出

CODE V 鏡頭數據
CODE V 圖形數據
LightTools腳本
數據表格
IGES 和 DXF 線框
VRML 輸出

輸入

CODE V 鏡頭數據
LightTools 腳本


可選擇輸入/輸出接口 (數據交換模塊)

IGES

寫IGES 5.3版本
讀 IGES 版本更新到 5.3

STEP

支持AP 203 CC 6 和 AP 214 CC 2

SAT

讀和寫 1.5, 2.0, 3.0, 4.0, 5.0版本

CATIA

讀和寫 CATIA V4 和V5


成像光路(只針對成像光路模塊)

允許設定的成像光路數量

無限制

允許光線追跡的類型

序列或非序列光線追跡

成像光路定義

非序列光線追跡
選擇表面

成像光路更新

添加新元件或表面
添加非序列光線追跡

光線路徑顯示

顯示一個單獨的成像路徑(包括傳統的鏡頭規定列表)

視場規格

靈活地通過視場規格窗口設定

參考光線規格

靈活地通過瞳孔規劃窗口設定

光學屬性規劃

光線像差曲線
點陣圖

可輸出CODE V

Yes

可輸入CODE V

Yes


支持多核運算

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